uv 노광기

페이지 정보

profile_image
작성자라미 조회 14회 작성일 2020-09-18 11:32:04 댓글 0

본문

Auto UV Exposure - Roll to Roll RRS 052A 롤 자동 노광기

Auto UV Exposure - Roll to Roll RRS 052A 롤 자동 노광기
FPCB Roll Expsure. 4CCD alignment
Eric Seo
naejari@naver.com
서혁준

UV경화기.노광기.라미네이터.주요장비-1/1

UV경화기.자동 및 수동 노광기.웨이퍼 경화기.OLED.주요장비

EUV공정이란 무엇인가?

EUV 공정이란 무엇인가?
리슈 : 좋은 영상 감사합니다
YU SASA : ASML 주식을 살려고 공부하려다가 마침 들려서 잘 배우고 갑니다^^ 고맙습니다 ‍♀️
이성수 : 감사합니다
MIONG-JE LHIE : 1500억이 더 정확
Y : 14:55
EUV 공정이 힘든 이유를 정정하자면, EUV의 에너지가 너무 강력해서 어떠한 물질이든 만나기만하면 다 흡수되어 버리기 때문입니다. 따라서 매우 높은 진공도를 필요하게 됩니다. (진공이 아니면 쓸수가 없습니다)

물질이 빛을 흡수하는 현상은, 물질의 Valence Band(VB)에 있는 Electron이 Conduction Band(CB)로 여기되면서 발생하는데요, 현재 ArF 노광 공정에서 Mask 재료로 석영(quartz)을 사용하는 이유가 바로 이 Band Gap(VB와 CB의 gap) 에너지 때문입니다. ArF는 193nm의 파장에 약 6.4eV 정도의 에너지를 가지는 반면, 석영의 band gap은 약 9eV정도 되기 때문에 ArF가 Mask를 지나면서 흡수되지 않고 통과할 수 있기 때문입니다. (Mask위에 metal(보통 Cu) pattern을 깔아놓으면 metal 부분에만 ArF가 흡수되어 패턴 식각이 가능한 원리)

그런데, EUV는 13.5nm의 단파장에 90eV가 넘는 높은 에너지를 갖습니다. ArF에 15배 정도의 높은 에너지죠. 즉, 석영이고 뭐고 모든 물질에 흡수되는 성질이 있습니다. 그래서 기존의 Mask 방식에 한계가 생겨버렸고 어거지로 생산하다보니 단가가 매우 높은 상황이죠. 그래서 펠리클 개발이니 뭐니 난리인 것이구요..
차영호 : 감사합니다^^
유용한 정보 공유해 주셔서
감사합니다

^^~~~♥
k dw : 14:52 EUV는 에너지가 너무 약한게 아니라 너무 쎄서 흡수됩니다.
에너지가 쎄기 때문에 발열도 심하구여
레이아 : W가 높아지면 tact time이 줄어드나요?
Lincoln Jo : 그러니깐 이 EUV 장비를 쓸 수 있는 곳이 삼성과 tsmc 두 곳이 있는거네요?
파운더리분야와 얼마나 공정이 겹치나요?
삼성이 euv공정 비메모분야에 진줄하는것과
tsmc가 euv공정 메모리 분야에 진출하는것중 어느쪽이 더 용이할까요?
궁금합니다.
철분이필요해 : 결국 EUV 가 기존 Arv 보다 해상도가 좋아졌다고 볼 수 있네요...

... 

#uv 노광기

댓글목록

등록된 댓글이 없습니다.

전체 1,398건 51 페이지
게시물 검색
Copyright © www.pisaf.or.kr. All rights reserved.  Contact : help@oxmail.xyz